一种HfO2/HfB2复合高红外发射率陶瓷涂层及其制备方法

成果基本信息
关键词：	HfO2/HfB2，高红外发射率，陶瓷涂层
成果类别：	应用技术	技术成熟度：	初期阶段
体现形式（基础理论类）：	其他	体现形式（应用技术类）：	新技术
成果登记号：		资源采集日期：

研究情况
单位名称：	武汉理工大学	技术水平：	未评价
评价证书号：		评价单位：
评价日期：		评价证书号：

转化情况
转让范围：	合作开发	推广形式：	合作开发
已转让企业数（个）：

联系方式
联系人（平台）：	孵化基地	联系人（平台）电话：	0771-3394012
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成果简介
本发明公开了一种HfO2/HfB2复合高红外发射率陶瓷涂层及其制备方法。以HfO2和B4C为原料，加去离子水与粘结剂研磨混合，然后喷雾造粒、筛分得HfO2/B4C复合团聚粉末；利用大气等离子喷涂工艺，将复合团聚粉末直接喷涂到待喷涂件表面，大气等离子喷涂工艺中，离子气的辅助气体含有H2，喷涂过程中，原料与H2反应生成HfB2、CO2和水蒸气，气体溢出，即得HfO2/HfB2复合高红外发射率陶瓷涂层。该陶瓷涂层制备工艺简单，可在喷涂过程中直接得到，无需另外添加还原剂，无需高温焙烧过程，合成时间短，能耗低，所得陶瓷涂层纯度高，红外发射率高，满足～2000℃超高温真空环境下应用

成果名称：	一种HfO2/HfB2复合高红外发射率陶瓷涂层及其制备方法	关键词：	HfO2/HfB2，高红外发射率，陶瓷涂层
成果类别：	应用技术	一级分类名称：
二级分类名称：		三级分类名称：
研究起止时间：		成果体现形式（应用技术类）：	新技术
成果属性：	原始性创新	成果体现形式（基础理论类）：	其他
技术成熟度：	初期阶段	技术水平：	未评价
研究形式：	独立研究	学科分类1：	国家标准GB T13745-92《学科分类与代码》
单位名称：	武汉理工大学	学科分类2：
中图分类号1：	中国图书资料分类法（第四版）	所属高新技术类别：
中图分类号2：		课题来源：	国家科技计划
应用行业：	科学研究、技术服务和地质勘查业	课题立项名称：
国家科技计划子类别：	高技术研究发展计划（863计划）	课题立项编号：
经费实际投入额（万元）：		评价单位：
评价形式：	鉴定	应用状态：	稳定应用
评价日期：		转让范围：	合作开发
评价证书号：		推荐单位：
推广形式：	合作开发	成果登记号：
成果简介：	本发明公开了一种HfO2/HfB2复合高红外发射率陶瓷涂层及其制备方法。以HfO2和B4C为原料，加去离子水与粘结剂研磨混合，然后喷雾造粒、筛分得HfO2/B4C复合团聚粉末；利用大气等离子喷涂工艺，将复合团聚粉末直接喷涂到待喷涂件表面，大气等离子喷涂工艺中，离子气的辅助气体含有H2，喷涂过程中，原料与H2反应生成HfB2、CO2和水蒸气，气体溢出，即得HfO2/HfB2复合高红外发射率陶瓷涂层。该陶瓷涂层制备工艺简单，可在喷涂过程中直接得到，无需另外添加还原剂，无需高温焙烧过程，合成时间短，能耗低，所得陶瓷涂层纯度高，红外发射率高，满足～2000℃超高温真空环境下应用
联系人：	陈绪高	成果登记日期：
联系人email：		单位代码：
邮政编码222：		联系人电话：	15296551147
单位传真：		单位通讯地址：
单位所在省市：		单位电话：
转让收入（万元）：		单位属性：	大专院校
合作完成单位：		已转让企业数（个）：
成果发布年份：		知识产权形式：
成果完成人：		资源采集日期：

一种HfO2/HfB2复合高红外发射率陶瓷涂层及其制备方法

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