成果基本信息 | ||||||
关键词: | 高温光纤光栅阵列 | |||||
成果类别: | 应用技术 | 技术成熟度: | 初期阶段 | |||
体现形式(基础理论类): | 其他 | 体现形式(应用技术类): | 新技术 | |||
成果登记号: | 资源采集日期: |
研究情况 | |||||
单位名称: | 武汉理工大学 | 技术水平: | 未评价 | ||
评价证书号: | 评价单位: | ||||
评价日期: | 评价证书号: |
转化情况 | |||||
转让范围: | 合作开发 | 推广形式: | 合作开发 | ||
已转让企业数(个): |
联系方式 | |||||
联系人(平台): | 孵化基地 | 联系人(平台)电话: | 0771-3394012 | ||
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成果简介 | |||||
本发明涉及一种波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列的制备方法,该方法包括以下步骤:步骤1),飞秒激光刻写装置在同一根聚酰亚胺光纤上连续刻写多个不同波长的光纤布拉格光栅,形成聚酰亚胺光纤光栅阵列;步骤2),将步骤1)得到的聚酰亚胺光纤光栅阵列从刚性导热管的开口处置入其内腔,然后采用橡胶限位管将聚酰亚胺光纤光栅阵列固定,最后在刚性导热管的开口处注入耐高温无机胶进行固定,制得波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列。本发明制备得到低反射率、低偏振相关、低插损和耐高温性好的光纤光栅,可以在300‑1000℃高温条件下稳定工作,适合航空航天、机载过热、石油化工和电力工业等极端环境 |