成果基本信息 | ||||||
关键词: | 绿色生产;柔性制造;微纳米;结构 | |||||
成果类别: | 技术成熟度: | |||||
体现形式(基础理论类): | 体现形式(应用技术类): | 无 | ||||
成果登记号: | 9322017Y0273 | 资源采集日期: | 2018-03-05 |
研究情况 | |||||
单位名称: | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 | 技术水平: | |||
评价证书号: | 评价单位: | ||||
评价日期: | 评价证书号: |
转化情况 | |||||
转让范围: | 推广形式: | 无 | |||
已转让企业数(个): | 0 |
联系方式 | |||||
联系人(平台): | 玉女士 | 联系人(平台)电话: | 0771-5885053 | ||
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成果简介 | |||||
主要技术内容: 本项目是“面向绿色生产的微纳柔性制造”平台技术研发和应用。 微纳制造技术在柔性电子、新型3D显示、纳米印刷和国防科技等领域发挥重要作用。在微纳米层次上,结构界面与光、电子相互作用,可产生奇特效应,是设计先进材料与功能器件的新途径。如何实现无排放微纳制造是国际性难题。在国家“863计划”先进制造领域重大项目等计划、配套支持下,本项目面向“绿色生产”,设计先进工艺方法与过程,研发微纳装备,攻克“光场调控的纳米光刻、微纳灰度3D直写、柔性纳米压印/转印、微纳增材制造”的关键技术瓶颈,以“模块化、知识密集、可升级和快速配置”的模式,建立柔性创新平台,实现了微纳材料和器件的绿色制造和产业应用,为下一阶段我国柔性光电子产业的创新发展提供了重要技术支撑。 技术经济指标: 1、关键技术指标 (1)综合功能指标。支持微纳结构数字化制造,包括多层图形化金属-介质、单/双面、嵌入型金属-介质和3D形貌等结构。结构:X-Y>90nm, Z<50μm,柔性纳米/转印基材厚度>15μm,面积<65吋。 (2)结构光场调控技术。a)纳米光刻设备NanoCrystal,实现了“五维度结构光场”调控(结构尺度、取向、深度),线宽(>90nm)调制精度1nm!,深度分辨率10nm(变脉冲能量曝光速率5000帧/s)。b)微纳3D直写设备HoloMakerV,发明二元数字光场脉冲叠加曝光模式(数据分辨率100nm),解决了3D形貌高速化灰度直写难题,3D形貌深度0-50μm,本方法比步进灰度光刻提高1个量级以上!填补行业空白。 (3)柔性纳米压印/转印技术。a)多层图形化结构的纳米印刷。对于红、绿、蓝的微腔(表面吸收层6nm-10nm、间隔层台阶150nm/180nm/215nm),用低表面能柔性模具UV纳米压印/转印,速率达60m/分,寿命>10万米,实现了批量化微纳图像的设计制造。(b)双面纳米直接压印技术。压印速率8秒@15.6吋 ~ 20秒@55吋,基材厚度0.15mm-0.3mm@12.3吋@PC@导光板(膜)。通过“遗传算法”优化数据处理、导光均匀度>89%(13点测试),55吋模具(微透镜)加工仅12小时,比国际先进水平提高2倍。与注塑相比,本成果耗电降低50%,厚度降低30%(材料利用提高30%),光效率提升5%,成本降低30%,可完全替代丝网导光板工艺,无排放! (4)微纳增材制造技术。基于纳米压印和深纹直写技术,实现了“嵌入金属-介质”结构的透明导电膜,线宽0.5μm-10um @1300mm,纳米填充/生长速率:30s~2.5分@55吋。透明电极/导电膜的导电率:0.1欧/方-5欧/方@透明度(82%~87%),“镂空透明金属薄膜”电磁屏蔽40dB-50dB@(2GHz-30GHz),无金属蚀刻!与ITO膜相比,导电率提高2个量级,且抗绕曲。上述技术为AMOLED金属镂空掩模、大尺寸电容触控屏和柔性电子材料的核心技术。 逐步打造了有国际影响的“微纳柔性制造创新平台”,为产业创新、国际科技合作提供了重要发展机会。 2、主要经济指标: 已有多种微纳功能材料(器件)、微纳功能器件和部分工艺装备实现产业应用。近两年,完成单位新增销售6.3亿元,近四年新增销售11.5亿元。带动行业新增销售累计达20亿元。 与国内外高水平机构(企业)的创新合作,逐步在新型显示、柔性电子、教育科研等领域应用。 |