| 成果基本信息 | ||||||
| 关键词: | ||||||
| 成果类别: | 应用技术 | 技术成熟度: | 初期阶段 | |||
| 体现形式(基础理论类): | 论文 | 体现形式(应用技术类): | 新技术 | |||
| 成果登记号: | 资源采集日期: | |||||
| 研究情况 | |||||
| 单位名称: | 厦门大学2 | 技术水平: | 国际领先 | ||
| 评价证书号: | 评价单位: | ||||
| 评价日期: | 评价证书号: | ||||
| 转化情况 | |||||
| 转让范围: | 产权转让 | 推广形式: | 产权转让 | ||
| 已转让企业数(个): | |||||
| 联系方式 | |||||
| 联系人(平台): | 孵化基地 | 联系人(平台)电话: | 0771-3394012 | ||
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| 成果简介 | |||||
ZL200810072367.9 无诱导磁场下产生面内单轴磁各向异性的薄膜的制备方法,涉及一种软磁薄膜材料。提供一种无诱导磁场下产生面内单轴磁各向异性的薄膜的制备方法。其组成及其按原子百分比的含量为磁性合金或磁性金属:92%~98%,非磁性金属:2%~8%。将基片装入溅射室,安装上铁靶和非磁性金属靶,或铁钴合金靶和非磁性金属靶;开启真空系统进行抽气,直至溅射室本底真空高于5×10-4Pa;基片加热,直至设定基片温度;向溅射室通入反应气体,使靶面起辉并先预溅射,待辉光稳定后,启动基片旋转按钮,打开基片挡板,最后溅射沉积,得无诱导磁场下产生面内单轴磁各向异性的薄膜。 |